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據(jù)報(bào)道，初創(chuàng)公司Lace Lithography AS（挪威卑爾根）正在開發(fā)一種光刻技術(shù)，該技術(shù)使用向表面發(fā)射的原子來(lái)定義特征，其分辨率超出了極紫外光刻技術(shù)的極限。

      Lace Litho所稱的BEUV理論上可以實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的特征，支持晶體管的持續(xù)小型化并延伸摩爾定律。該公司由卑爾根大學(xué)首席執(zhí)行官Bodil Holst教授和首席技術(shù)官Adria Salvador Palau于2023年7月共同創(chuàng)立，后者在卑爾根大學(xué)獲得博士學(xué)位，但目前在西班牙巴塞羅那運(yùn)營(yíng)。傳統(tǒng)的EUV系統(tǒng)使用13.5nm波長(zhǎng)的光，通過(guò)一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)直接無(wú)掩模圖案化，其分辨率甚至小于受波長(zhǎng)限制的EUV系統(tǒng)所能達(dá)到的分辨率。該公司在其網(wǎng)站上聲稱：“通過(guò)使用原子代替光，我們?yōu)樾酒圃焐烫峁┝祟I(lǐng)先當(dāng)前技術(shù)15年的功能，而且成本更低、能耗更低?！盨alvador Palau和Holst教授共同撰寫了一篇發(fā)表在《物理評(píng)論A》上的論文，題為《利用中性氦原子進(jìn)行真實(shí)尺寸表面映射》。該論文詳細(xì)介紹了立體氦顯微鏡的實(shí)現(xiàn)和操作。FabouLACE是一個(gè)由歐盟資助的項(xiàng)目，旨在開發(fā)基于色散力掩模的氦原子光刻技術(shù)，其預(yù)算為250萬(wàn)歐元，由歐洲創(chuàng)新委員會(huì)提供。該項(xiàng)目啟動(dòng)日期為2023年12月1日，將持續(xù)到2026年11月30日。FabouLACE采用亞穩(wěn)態(tài)原子和基于色散力的掩模，可實(shí)現(xiàn)2納米工藝。歐盟委員會(huì)表示，Lace光刻技術(shù)已獲授權(quán)在2031年前將該技術(shù)推向市場(chǎng)。與此同時(shí)，該技術(shù)的性能將由IMEC研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行監(jiān)測(cè)和驗(yàn)證。NanoLACE是歐洲早期的一個(gè)研究項(xiàng)目，于2024年12月31日結(jié)束。該項(xiàng)目于2019年啟動(dòng)，已獲得336萬(wàn)歐元的資助，其預(yù)算為365萬(wàn)歐元。Lace Lithography于2023年7月籌集了約45萬(wàn)歐元的種子輪融資，由Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創(chuàng)新委員會(huì)、挪威創(chuàng)新局和挪威研究委員會(huì)提供支持。（摘編自eenewseurope）